Tantal plate

Tantal plateer en plate laget av metalltantal, som er et sølvhvitt, høy tetthet, korrosjonsbestandig, høytsmeltende overgangsmetall. Den har det kjemiske symbolet Ta, atomnummer 73, og en atomvekt på 180,95. Tantal er også et svært korrosjons- og høytemperaturbestandig materiale med kjemisk stabilitet og utmerkede elektriske og termiske egenskaper. Det er et gråsvart metall med en tetthet så høy som 16,6 g/cm^3 og et smeltepunkt så høyt som 3017 grader . På grunn av sin utmerkede kjemiske stabilitet og elektrolyttkjemi, er tantal mye brukt i produksjon av kjemiske reaktorer, vakuumovner, medisinsk utstyr, kondensatorer, lysdioder og halvlederenheter. Det regnes også ofte som et strategisk materiale på grunn av dets knapphet og høye pris. Dens kjemiske sammensetning inneholder bare Ta-element, ingen andre urenheter.

Tantalplate er et metallisk materiale med høy renhet med følgende fysiske og kjemiske egenskaper:

• Tetthet: 16,6 g/cm3
• Smeltepunkt: 3017 grader
• Termisk ledningsevne: 57 W/(m·K)
• Termisk utvidelseskoeffisient: 6,3×10-6/K

Korrosjonsmotstand: Den har utmerket korrosjonsbestandighet i de fleste syrer, alkalier og saltløsninger, spesielt for sterk syre og sterke alkaliløsninger som flussyre, svovelsyre, saltsyre, ammoniumklorid og natriumhydroksid korrosjonsbestandighet.

Kjemisk stabilitet: Den har høy kjemisk stabilitet og er ikke utsatt for kjemiske reaksjoner under høye temperaturer og høyt trykk.

Oksidasjonsegenskaper: Den har gode oksidasjonsegenskaper og kan danne et tett oksidlag ved høye temperaturer, noe som gjør at den har bedre korrosjonsbestandighet.

Generelt har den høy korrosjonsbestandighet, kjemisk stabilitet og oksidasjonsmotstand, så den er mye brukt i kjemisk industri, elektronikk, romfart og andre felt. Generelt er den kjemiske sammensetningen av tantalplater som følger:

-R05200, ulegert tantal, elektronstråleovn eller vakuumbuesmelte, eller begge deler,

-R05400, ulegert tantal, pulvermetallurgisk konsolidering,

-R05255, tantallegering, 90 % tantal 10 % wolfram, elektronstråleovn eller vakuumbuesmelte, eller begge deler,

-R05252, tantallegering, 97,5 % tantal 2,5 % wolfram, elektronstråleovn eller vakuumbuesmelte, eller begge deler,

-R05240 tantallegering, 60 % tantal 40 % kolumbium, elektronstråleovn eller vakuumbuesmelte, eller begge deler.

Produksjonsprosessen av tantalmetallplate er som følger:

1) Materialvalg: I henhold til kundens krav og produktspesifikasjoner velges tantalbarrer med høy renhet for produksjon.

2) Smelting: Smelting av den valgte tantalblokken ved høy temperatur for å gjøre den til en flytende tilstand.

3) Støping: støping av den smeltede tantalvæsken til en plateform, og den nødvendige tykkelsen og størrelsen kan oppnås ved å kontrollere temperaturen og støpehastigheten.

4) Behandling: Tantalplaten behandles, for eksempel kutting, polering, preging, etc., for å møte kundenes behov og spesifikasjoner.

5) Testing: Det gjennomføres streng kvalitetstesting på tantalplater, som fysiske egenskaper, kjemisk sammensetning etc., for å sikre at produktene oppfyller relevante standarder og krav.

6) Pakking: Pakk den kvalifiserte tantalmetallplaten for å sikre at den ikke blir skadet under transport.

Plastposer og kraftpapir som innvendig, trekasse som utvendig.

Høytemperaturmaterialer, vakuumbeholdere, røntgenrør, koboltskall for kobolt 60-behandling, høytemperaturovner, kondensatorer, elektroniske enheter, kjemiske reaksjonsbeholdere, vakuumsystemer, atomenergi og kjernefysisk industri, medisin, bioteknologi og andre felt . Kort sagt, bruksområdene til tantalplater er ganske omfattende.

Populære tags: tantal plate, Kina tantal plate produsenter, leverandører